- Vào những năm 1990, Intel đã hợp tác với các công ty khác để phát triển công nghệ EUV lithography. ASML (Hà Lan), Nikon và Canon (Nhật Bản) cũng tiến hành nghiên cứu tương tự.
- Năm 2012, công nghệ EUV đạt độ chín thương mại. ASML cần đầu tư lớn để sản xuất máy EUV trên quy mô lớn. Các nhà sản xuất chip lớn đã nhanh chóng huy động vốn đầu tư vào ASML.
- Tuy nhiên, Intel đã mắc sai lầm chiến lược khi không mua bất kỳ máy EUV thế hệ đầu tiên nào của ASML mặc dù là nhà đầu tư lớn nhất.
- Công nghệ EUV có nguồn gốc và tài trợ từ Mỹ lại được sử dụng để giúp đỡ đối thủ kinh tế và chính trị lớn nhất của họ là Trung Quốc. Nếu Trung Quốc tiếp tục tiếp cận chip sản xuất bằng công nghệ EUV, họ sẽ đạt được bước nhảy vọt trong phát triển AI cho cả ngành công nghiệp và quân sự.
- Việc Mỹ mất kiểm soát công nghệ EUV cho thấy điểm yếu và sai lầm chiến lược của họ cách đây hơn 20 năm.
- Intel quyết tâm không bỏ lỡ bước đột phá tiếp theo và đang đặt cược lớn vào thế hệ EUV lithography tiếp theo gọi là High Numerical Aperture EUV lithography.
📌 Sai lầm chiến lược của Intel khi không đầu tư vào công nghệ EUV lithography đã khiến họ mất thế độc quyền chip vào tay ASML. Điều này cho thấy điểm yếu của Mỹ và lợi thế của Trung Quốc nếu tiếp cận được công nghệ này. Intel đang quyết tâm với thế hệ EUV tiếp theo để không lặp lại sai lầm.
Citations:
[1] https://www.calcalistech.com/ctechnews/article/y4j6dd07g