• Ngày 24/3/2025, Trung tâm Công nghệ Nano Zelenograd ở Moscow đã hoàn thành phát triển máy quang khắc đầu tiên của Nga với độ phân giải 350 nanomet.

• Thị trưởng Moscow Sergei Sobyanin thông báo trên kênh Telegram rằng chỉ có ít hơn 10 quốc gia trên thế giới có khả năng tạo ra thiết bị quan trọng này cho sản xuất bán dẫn, và giờ đây Nga đã gia nhập nhóm này.

• Hệ thống của Nga khác biệt đáng kể so với các sản phẩm nước ngoài, lần đầu tiên sử dụng laser thể rắn - mạnh mẽ, tiết kiệm năng lượng, tuổi thọ dài hơn và phổ hẹp hơn - làm nguồn sáng.

• Máy quang khắc là thiết bị thiết yếu trong sản xuất vi mạch, đóng vai trò là công cụ cốt lõi để tạo mẫu thiết kế phức tạp của mạch tích hợp lên tấm wafer silicon.

• Có 2 loại máy quang khắc: DUV (Deep Ultraviolet) và EUV (Extreme Ultraviolet), khác nhau về nguồn sáng và bước sóng, ảnh hưởng trực tiếp đến kích thước và độ phức tạp của các tính năng chúng có thể tạo ra.

• Máy DUV sử dụng laser excimer (KrF ở 248nm hoặc ArF ở 193nm) để phát ra ánh sáng cực tím sâu, trong khi máy EUV sử dụng hệ thống plasma tạo ra bởi laser (LPP) để tạo ra ánh sáng cực tím cực đoan 13.5nm.

• Laser thể rắn của Nga có hiệu suất quang học cao hơn (20-30%) so với laser khí như CO₂ (10-15%), sử dụng chất rắn được pha tạp (tinh thể/thủy tinh) làm môi trường khuếch đại.

• Các quốc gia có khả năng sản xuất máy quang khắc bao gồm Hà Lan, Nhật Bản, Mỹ, Trung Quốc, Nga và Thổ Nhĩ Kỳ, với Hà Lan dẫn đầu toàn cầu thông qua công ty ASML.

• ASML độc quyền về hệ thống EUV (7nm trở xuống), trong khi các quốc gia khác có khả năng sản xuất máy DUV (28nm trở lên).

• Nga hiện có một số công ty vận hành nhà máy sản xuất chip sử dụng máy DUV nhập khẩu, với Mikron (ở Zelenograd gần Moscow) có thể sản xuất hàng loạt chip ở mức 90nm và đã đạt tiêu chuẩn cho quy trình 65nm vào năm 2020.

• Nga đặt mục tiêu sản xuất chip 28nm nội địa vào năm 2027 và 14nm vào năm 2030, với Trung tâm Công nghệ Nano Zelenograd đang tiến hành hợp đồng nhà nước thứ hai để phát triển máy quang khắc có độ phân giải 130nm, dự kiến hoàn thành vào năm 2026.

📌 Nga đã phát triển thành công máy quang khắc 350nm đầu tiên, gia nhập nhóm 10 quốc gia có công nghệ này. Mặc dù công nghệ còn lạc hậu so với tiêu chuẩn 7nm hiện đại, đây là bước đi chiến lược quan trọng, với kế hoạch phát triển máy 130nm vào năm 2026 và mục tiêu sản xuất chip 14nm vào năm 2030.