- Bằng sáng chế mới từ công ty thiết bị điện tử vi mô Thượng Hải (SMEE) cho thấy khả năng phát triển trong lĩnh vực thiết bị lithography EUV tại Trung Quốc.
- Bằng sáng chế này được nộp vào tháng 3 năm 2023 và hiện đang trong quá trình xem xét bởi Cơ quan Sở hữu trí tuệ Quốc gia Trung Quốc.
- Nếu thành công, việc sản xuất thiết bị EUV trong nước sẽ phá vỡ sự độc quyền của ASML, công ty Hà Lan hiện đang chiếm lĩnh thị trường này.
- ASML đã bị cấm xuất khẩu thiết bị EUV sang Trung Quốc từ năm 2019 do các lệnh trừng phạt của Mỹ.
- SMEE vẫn còn kém xa ASML trong việc sản xuất hàng loạt thiết bị lithography có thể sử dụng cho quy trình dưới 28 nanomet.
- Thị trường máy lithography tại Trung Quốc hiện do ASML và các công ty Nhật Bản như Nikon và Canon kiểm soát tới 99%.
- ASML hiện đang phải đối mặt với áp lực lớn để phục vụ khách hàng tại Trung Quốc, thị trường lớn thứ hai về doanh thu của họ vào năm 2023.
- Công ty này chỉ có thể đáp ứng 50% đơn hàng từ Trung Quốc do tồn đọng lớn.
- Theo báo cáo thường niên năm 2023, máy EUV chiếm 42% doanh số hệ thống của ASML với tổng doanh thu đạt 21,9 tỷ euro (24,2 tỷ USD).
- Công nghệ lithography EUV sử dụng ánh sáng có bước sóng chỉ 13.5 nanomet, cho phép sản xuất chip nhỏ hơn 7 nanomet với hiệu suất cao hơn.
- Công ty bán dẫn hàng đầu của Trung Quốc, Semiconductor International Manufacturing Corporation (SMIC), cũng chịu lệnh trừng phạt của Mỹ và phải sử dụng kỹ thuật đa mẫu trong quy trình 7 nanomet để sản xuất chip cho điện thoại Huawei Mate 60.
📌 SMEE đang tiến gần hơn đến việc sản xuất thiết bị lithography EUV tại Trung Quốc, điều này có thể phá vỡ độc quyền của ASML. Thị trường lithography tại Trung Quốc hiện do ASML chiếm ưu thế lớn, nhưng nhu cầu ngày càng tăng có thể tạo cơ hội cho SMEE phát triển.
https://www.scmp.com/tech/big-tech/article/3278235/chinese-chip-making-shows-progress-new-euv-patent-domestic-lithography-champion?module=perpetual_scroll_0&pgtype=article