- SMIC đã đạt được thành công trong quy trình sản xuất chip 5nm, một bước tiến lớn cho công ty này.
- Các chip Kirin 9000S và 9010 của Huawei trước đây được sản xuất trên quy trình 7nm.
- Quy trình 5nm mới của SMIC sử dụng công nghệ DUV lithography thay vì EUV lithography tiên tiến hơn.
- DUV lithography sử dụng ánh sáng cực tím sâu với bước sóng khoảng 193nm để khắc các mẫu mạch lên wafer silicon.
- EUV lithography sử dụng ánh sáng cực tím cực ngắn (khoảng 13.5nm), cho phép tạo ra các tính năng tinh vi hơn, giúp sản xuất các chip mạnh mẽ và hiệu quả hơn.
- Do căng thẳng giữa Mỹ và Trung Quốc, ASML, nhà cung cấp chính của máy lithography EUV, bị hạn chế bởi quy tắc xuất khẩu của Mỹ, không thể cung cấp công nghệ này cho các nhà máy của Trung Quốc như SMIC.
- Mặc dù có lo ngại về tỷ lệ sản xuất thành công, Huawei có khả năng sẽ sử dụng các bộ vi xử lý được sản xuất bằng quy trình 5nm mới của SMIC cho dòng Mate 70 sắp tới.
- Có tin đồn về một chiếc laptop mới của Huawei sử dụng chip Kirin cho PC, được cho là có hiệu suất ngang ngửa với Apple M2.
📌 SMIC đã đạt được thành công trong quy trình sản xuất chip 5nm, sử dụng công nghệ DUV lithography do hạn chế từ Mỹ. Huawei dự kiến sẽ sử dụng các chip này cho dòng Mate 70, bất chấp lo ngại về tỷ lệ sản xuất thành công. Tin đồn về laptop Huawei với chip Kirin cũng đang thu hút sự chú ý.
https://www.gizmochina.com/2024/05/14/smic-achieves-success-in-5nm-node-that-will-make-up-huawei-mate-70-processors-report/